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芯片在整个加工制作的过程中是极其复杂的，其中包括芯片设计、晶片制作、封装制作、测试等几个环节，每一步对于芯片的清洗水的水质要求极其高，在半导体芯片加工厂将会有大量的工业污水排放，今天来了解一下关于：芯片加工厂的污水处理方法。
芯片加工厂的废水主要来源于：集成电路芯片制造生产工艺复杂，包括硅片刻蚀、清洗、化学气相沉积等工序反复交叉，生产中使用了大量的化学试剂如HF、H2SO4、NH3・H2O等。
因此芯片加工厂的废水可以分为含氨废水、CMP研磨废水、酸碱废水、含氟废水、含氮废水、酸碱废水。
芯片加工厂的污水处理工艺可分为以下几种：
1、浓氨吹脱吸收工艺—含氟废水两阶段沉淀工艺(含氟废水与CMP研磨废水混合处理)—三级酸碱中和处理工艺;
2、出水氟离子浓度达到
3、水氟离子浓度可控制在10mg/L以下：二级反应+沉淀+一级反应+沉淀的两阶段沉淀反应;
4、两级反应池、酸碱原液直接投加，运行出水不稳定且药剂消耗量很大;
对于不同的芯片在加工的过程中采用的原材料是不一样的，因此排放出来的废水含有的污染物成分是不一样的，成分不一样采用的水处理工艺、处理的水处理药剂就会有所不同。
